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熱門關鍵詞：光學元件、光學儀器、光纖器件、光學成像、光機械

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Eksma 防反射鍍膜

簡要描述：Eksma 防反射鍍膜
這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現較大的效率透射。

產品品牌：Eksma
廠商性質：代理商
更新時間：2021-03-22
訪問量：1165

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詳細介紹

品牌	Eksma	價格區間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 防反射鍍膜

Eksma 防反射鍍膜

這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。

產品介紹

這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現較大的效率透射。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產品型號

ø25.4 mm光學元件的價格表

激光線抗反射鍍膜

型號	基材尺寸	波長	R,%(AOI=0°)	LIDT激光損傷閾值
AR266	≤ ø 25.4 mm	266 nm	R<0.4%	1 J/cm²
AR343	≤ ø 25.4 mm	333-353 nm	R<0.5%	3 J/cm²
AR343HT	≤ ø 25.4 mm	333-353 nm	R<0.2%	4 J/cm²
AR355	≤ ø 25.4 mm	355 nm	R<0.25%	3 J/cm²
AR355HT	≤ ø 25.4 mm	355 nm	R<0.2%	4 J/cm²
AR400	≤ ø 25.4 mm	380-420 nm	R<0.5%	3 J/cm²
AR400HT	≤ ø 25.4 mm	380-420 nm	R<0.2%	4 J/cm²
AR515	≤ ø 25.4 mm	500-530 nm	R<0.3%	5 J/cm²
AR515HT	≤ ø 25.4 mm	500-530 nm	R<0.1%	7 J/cm²
AR532	≤ ø 25.4 mm	532 nm	R<0.2%	5 J/cm²
AR532HT	≤ ø 25.4 mm	532 nm	R<0.1%	7 J/cm²
AR800	≤ ø 25.4 mm	760-840 nm	R<0.4%	8 J/cm²
AR800HT	≤ ø 25.4 mm	760-840 nm	R<0.1%	10 J/cm²
AR1030	≤ ø 25.4 mm	1000-1060 nm	R<0.3%	10 J/cm²
AR1030HT	≤ ø 25.4 mm	1000-1060 nm	R<0.1%	15 J/cm²
AR1064	≤ ø 25.4 mm	1064 nm	R<0.2%	10 J/cm²
AR1064HT	≤ ø 25.4 mm	1064 nm	R<0.1%	15 J/cm²

雙波段抗反射鍍膜

型號	基材尺寸	波長	R, %(AOI=0°)	LIDT激光損傷閾值
ARD800HT	≤ ø 25.4 mm	400+800 nm	R<0.2%	4 J/cm²
ARD1030	≤ ø 25.4 mm	515+1030 nm	R<0.5%	4 J/cm²
ARD1030HT	≤ ø 25.4 mm	515+1030 nm	R<0.1%	6 J/cm²
ARD1064	≤ ø 25.4 mm	532+1064 nm	R<0.5%	4 J/cm²
ARD1064HT	≤ ø 25.4 mm	532+1064 nm	R<0.1%	6 J/cm²

寬帶減反射膜

型號	基材尺寸	波長	R, %(AOI=0°)	激光損傷閾值
ARB300	≤ ø 25.4 mm	210-400 nm	R<2%	1 J/cm²
ARB550	≤ ø 25.4 mm	400-700 nm	R<0.9%	2 J/cm²
ARB625	≤ ø 25.4 mm	350-900 nm	R<1.5%	2 J/cm²
ARB825	≤ ø 25.4 mm	650-1100 nm	R<0.7%	3 J/cm²
ARB800	≤ ø 25.4 mm	700-900 nm	R<0.5%	3 J/cm²
ARB800HT	≤ ø 25.4 mm	700-900 nm	R<0.1%	5 J/cm²
ARB1000HT	≤ ø 25.4 mm	900-1100 nm	R<0.1%	5 J/cm²
ARB1375	≤ ø 25.4 mm	1050-1700 nm	R<0.7%	2 J/cm²

Laser Line AR coatings

鍍膜型號		波長	反射率, %		損傷閾值
AOI=0°	AOI=45°	nm	AOI=0°	AOI=45°	Threshold
3005-i0	3005-i45	193	< 1.0	<2.0	1 J/cm2 in 10 ns
3007-i0	3007-i45	248	< 0.8	<1.5	1.5 J/cm2 in 10 ns
3009-i0	3009-i45	266	< 0.4	<1.0	1.5 J/cm2 in 10 ns
3011-i0	3011-i45	308	<0.3	<0.6	1.5 J/cm2 in 10 ns
3014-i0	3014-i45	343	<0.25	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3015-i0	3015-i45	351-355	< 0.25	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3017-i0	3017-i45	400	< 0.25	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3021-i0	3021-i45	488-514	< 0.3	<0.5	2 J/cm2 in 10 ns
3023-i0	3023-i45	515	< 0.2	<0.5	4 J/cm2 in 10 ns
3025-i0	3025-i45	532	< 0.2	<0.5	4 J/cm2 in 10 ns
3027-i0	3027-i45	633-650	< 0.25	<0.5	4 J/cm2 in 10 ns
3031-i0	3031-i45	780	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3033-i0	3033-i45	800	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3035-i0	3035-i45	850	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3036-i0	3036-i45	1030	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3037-i0	3037-i45	1064	< 0.2	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3041-i0	3041-i45	1320	<0.3	<0.5	5 J/cm2 in 10 ns
3045-i0	3045-i45	1547	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns

請與我們聯系以獲取其他波長和AOI值。

雙波段增透膜

鍍膜型號		波長, nm	反射率, %		損傷閾值
AOI=0°	AOI=45°		AOI=0°	AOI=45°	Threshold
3106-i0	3106-i45	266 + 532	<0.5	<1.0	1.5 J/cm2 in 10 ns
3110-i0	3110-i45	355 + 532	<0.5	<1.0	2 J/cm2 in 10 ns
3114-i0	3114-i45	355 + 1064	<0.5	<1.0	2 J/cm2 in 10 ns
3118-i0	3118-i45	400 + 800	<0.5	<1.0	3 J/cm2 in 10 ns
3121-i0	3121-i45	515 + 1030	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3122-i0	3122-i45	532 + 1064	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3126-i0	3126-i45	670 + 1064	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3127-i0	3127-i45	808 + 1064	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3130-i0	3130-i45	1064 +1320	<0.5	<1.0	4 J/cm2 in 10 ns
3134-i0	3134-i45	1064 +1570	<0.5	<1.0	3 J/cm2 in 10 ns

請與我們聯系以獲取其他波長和AOI值。

寬帶增透膜

寬帶抗反射BBAR鍍膜設計用于在特定波長范圍內將組件的反射率降低至接近零。因此，光可以通過復雜的光學系統有效透射，而不會因眩光和散射而丟失。我們的增透膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現較大的效率透射。

鍍膜型號		波長, nm	反射率, %		損傷閾值
AOI=0°	AOI=45°		AOI=0°	AOI=45°	Threshold
3205-i0	3205-i45	210-400	<2	<3	1.5 J/cm2 in 10 ns
3207-i0	3207-i45	250-350	<1.2	<2.5	1.5 J/cm2 in 10 ns
3209-i0	3209-i45	300-400	<1.0	<2.0	1.5 J/cm2 in 10 ns
3211-i0	3211-i45	350-500	<0.8	<1.6	2.0 J/cm2 in 10 ns
3213-i0	3213-i45	350-900	<1.5	<3.0	2.0 J/cm2 in 10 ns
3215-i0	3215-i45	400-550	<0.4	<0.8	2.5 J/cm2 in 10 ns
3217-i0	3217-i45	400-700	<0.9	<1.8	3.0 J/cm2 in 10 ns
3219-i0	3219-i45	420-680	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3221-i0	3221-i45	450-750	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3223-i0	3223-i45	500-800	<0.6	<1.2	3.0 J/cm2 in 10 ns
3224-i0	3224-i45	500-1000	<1.5	<3.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3225-i0	3225-i45	600-900	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3227-i0	3227-i45	750-900	<0.5	<1.0	3.0 J/cm2 in 10 ns
3229-i0	3229-i45	800-1200	<0.7	<1.4	2.5 J/cm2 in 10 ns
3231-i0	3231-i45	1000-1400	<0.7	<1.4	2.0 J/cm2 in 10 ns
3232-i0	3232-i45	1050-1700	<1	<1.5	2.0 J/cm2 in 10 ns
3233-i0	3233-i45	1300-1700	<0.7	<1.4	2.0 J/cm2 in 10 ns
3235-i0	3235-i45	1500-2000	<0.7	<1.4	1.5 J/cm2 in 10 ns

這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現較大的效率透射。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

這些多層抗反射鍍膜設計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復雜的光學系統有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現較大的效率透射。

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